低溫恒溫循環(huán)器廠家

簡要描述：低溫恒溫循環(huán)器常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

產(chǎn)品型號：PXX-0550
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2026-07-15
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　　低溫恒溫循環(huán)器常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

　　低溫恒溫循環(huán)器提供-40℃~105℃溫度范圍內(nèi)的高、低恒溫液體，以滿足用高、低溫做反應的恒溫儀器的需要。特別適用與化學反應釜、發(fā)酵罐、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。*內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定，外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進行高低溫試驗或測試，實現(xiàn)一機多用。

　　低溫恒溫循環(huán)器可選配RS232或RS485通訊接口，實現(xiàn)數(shù)據(jù)傳輸進行遠距離控制。

　　低溫恒溫循環(huán)器可以選配程序控溫系統(tǒng)，其特點為：

　　☆大屏幕液晶顯示，軟件程序控制，可編輯時間/溫度曲線。

　　☆多段可編溫度、時間程序，控制升溫、恒溫、降溫過程，且升溫速度、降溫速度可按用戶要求設置自動控制。

　　☆編寫儲存30個溫度/時間段，每個程序可設置0～9999分鐘運行時間。

　　☆多種參數(shù)設定方式:方便快捷的輸入鍵、移位鍵和增鍵、減鍵，設定溫度/時間段及其他高級控制參數(shù)或直接調(diào)儲存的溫度/時間設定程序。

　　低溫恒溫循環(huán)器應用領域：

　　☆生化領域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器(合成器)等。

　　☆材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。

　　☆醫(yī)療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。

　　☆物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。

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